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快速退火爐的應用領域和使用條件介紹

更新時間:2019-04-24    點擊次數:5696
快速退火爐具有升溫速度快、密封好、溫度范圍寬、實驗方便等特點。
 
真空快速退火爐的應用領域:
 
- 離子注入/接觸退火;
- 快速熱處理(RTP),快速退火(RTA),快速熱氧化(RTO),快速熱氮化(RTN);
- 可在真空、惰性氣氛、氧氣、氫氣、混合氣等不同環境下使用;
- SiAu, SiAl, SiMo合金化;
- 低介電材料;
- 晶體化,致密化;
- 太陽能電池片鍵合
 
快速退火爐適用于下列工作條件:
 
(1)環境溫度在-10~75℃之間。
(2)周圍環境的相對濕度不超過85%。
(3)爐子周圍沒有導電塵埃,爆炸性氣體及嚴重破壞金屬和絕緣材料的腐蝕性氣體。
(4)沒有明顯的傾斜﹑振動和顛簸。
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